单晶圆兆声清洗技术研究及兆声喷头方案优化  

Study of Single-wafer Megasonic Cleaning and Optimization of Megasonic Nozzle

作　　者：刘永进[1] 杜建科[1] 冯小强[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京101601

出　　处：《电子工业专用设备》2011年第1期15-17,共3页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：基于单晶圆兆声清洗的原理,分析了针对单晶圆兆声清洗的多种方案的优缺点,提出了适合单晶圆兆声清洗的优化方案。Based on the theory of single-wafer megasonic cleaning,measures are anlysised,and an improved measure is indicated.

关 键 词：单晶圆 兆声 清洗 

分 类 号：TH132[机械工程—机械制造及自动化]