8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性  

FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF Mo/B 4C MULTILAYER AT WAVELENGTH OF 8 0 nm FOR X RAY LASER

作　　者：吕俊霞[1] 马月英[1] 裴舒 沈长斌[2] 曹健林[1] 陈星旦[1] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械研究所,130022 [2]大连铁道学院,116028

出　　处：《原子能科学技术》1999年第4期343-345,共3页Atomic Energy Science and Technology

基　　金：国家自然科学基金;国家"863"项目

摘　　要：用磁控溅射法制备工作波长约８０ ｎｍ 的 Ｍｏ／ Ｂ４ Ｃ多层膜作为正入射短波长（λ＜ １０．０ ｎｍ ）软 Ｘ 射线激光反射腔的反射镜。经 Ｘ 射线衍射仪和 Ｔ Ｅ Ｍ 检测，多层膜周期结构准确，热稳定性高。The Mo/B 4C multilayer at wavelength of 8.0 nm is fabricated by magnetron sputtering. The microstructure of multilayer are tested using X ray diffraction and TEM,and the results show that Mo/B 4C multilayer have high structural quality and thermal stability.

关 键 词：软X射线 多层膜 磁控溅射法 激光反射镜 膜系 

分 类 号：O484.8[理学—固体物理]