金刚石薄膜合成技术  

Synthesis of Diamond Thin Films

作　　者：向军[1] 饶丽[1] 

机构地区：[1]四川工业学院材料科学与工程系,四川成都610039

出　　处：《四川工业学院学报》1999年第3期47-52,共6页Journal of Sichuan University of Science and Technology

摘　　要：作者对金刚石薄膜气相合成的历史，金刚石薄膜的沉积方法以及金刚石薄膜沉积技术的发展方向和应用前景进行了论述。This paper describes the history and advancement of synthesizing diamond thin films,and also summerizes its advacing direction and application prospect.

关 键 词：金刚石薄膜 气相沉积 合成 HFCVD 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TG174.4[理学—物理]