大视场紫外高均匀照明光学系统构成原理和光能分布模拟计算  

Construction principle of i line illumination optical system and simulation calculation of the intensity distribution

作　　者：林大键[1] 周崇喜[1] 尹燕[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209

出　　处：《微细加工技术》1999年第4期24-27,共4页Microfabrication Technology

摘　　要：叙述紫外（ｉ 线）均匀照明光学系统构成原理和光能分布模拟计算设计方法。举例说明用开发的模拟设计软件ＯＰＴＥＮＧ，设计和模拟计算了一个大视场均匀照明光学系统，在照明面积为１００ｍ ｍ ×１００ｍ ｍ 范围内，照明光能分布不均匀性小于±２ ％ 。The optical design methods of uniform illumination for microlithography …construction principle of optical system and simulation calculation of intensity distribution are described. For example, an i line illumination optical system with illumination area 100mm×100mm is calculated by using the simulation software OPTENG and the illumination uniformity of ±2%could be realized.

关 键 词：光学系统 紫外光 均匀照明 光能分布 曝光 光刻 

分 类 号：TN242[电子电信—物理电子学] TN305.7