高抗蚀性的聚酯型光刻胶  

作　　者：吕广镛[1] 杨年光 黄建兴[1] 

机构地区：[1]华南师范大学化学系

出　　处：《广东化工》1989年第3期27-30,共4页Guangdong Chemical Industry

摘　　要：聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1～2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二酯(乙胶),虽可刻蚀细线但抗蚀性较差,如提高其分子量以满足抗蚀性,则又仅可用于刻蚀4μm左右的线条。

关 键 词：光刻胶 聚酯型 抗蚀性 

分 类 号：TQ433.439[化学工程]