黄建兴

作品数：4被引量：3H指数：1
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供职机构：华南师范大学更多>>
发文主题：高聚物电容性能湿敏光刻胶抗蚀性更多>>
发文领域：电子电信化学工程自动化与计算机技术电气工程更多>>
发文期刊：《华南师范大学学报（自然科学版）》《广东化工》《仪表技术与传感器》更多>>
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铜膜电阻温度传感器研制中的几个关键技术分析
《华南师范大学学报（自然科学版）》1993年第2期12-17,共6页李光云 陈佩娴 任进勇 黄建兴 杨年光 林大流 
本文分析讨论研制钢膜电阻温度传感器的几个关键技术和工艺,并说明光刻版的设计要与实验室的工艺条件相适应;蒸发源的纯度、镀膜室的真空度和基片的温度对镀膜的质量有重要影响;镀膜厚度对器件互换性有重大影响,光刻时要防止到蚀过量和...
关键词：铜 薄膜 温度传感器 光刻版 镀膜 刻蚀 
一种高聚物新材料湿敏电容元件的研究被引量：1
《仪表技术与传感器》1993年第3期29-31,共3页李光云 黄建兴 陈佩娴 
本文叙述用聚肉挂叉丙二酸乙二醇—1.4丁二醇酯(简称JZ—YD)制造湿敏电容元件的工艺条件和响应性能,并对实验结果进行了讨论。
关键词：高聚物 湿敏电容元件 感湿膜 
一种新型高聚物材料湿敏电容性能的研究
《华南师范大学学报（自然科学版）》1992年第2期20-24,共5页李光云 陈佩嫻 任进勇 林大流 黄建兴 杨年光 廖秉良 
本文叙述用聚内桂叉丙乙酸乙二醇—1.4丁二醇酯(简称JZ—YD)制造湿敏电容器的工艺条件和响应性能,并对实验结果进行了讨论.
关键词：湿敏电容器 高聚物 响应性能 工艺条件 
高抗蚀性的聚酯型光刻胶被引量：2
《广东化工》1989年第3期27-30,共4页吕广镛 杨年光 黄建兴 
聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1～2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二酯(乙胶),虽可刻蚀细线但抗蚀性较差,如提高其分子量以满足抗蚀性...
关键词：光刻胶 聚酯型 抗蚀性 
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