光刻版

作品数:25被引量:20H指数:2
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相关作者:冯志红吕元杰宋旭波顾国栋袁伟更多>>
相关机构:无锡华润上华科技有限公司上海华虹宏力半导体制造有限公司中国科学院无锡华润上华半导体有限公司更多>>
相关期刊:《微纳电子技术》《微电子学》《微细加工技术》《中国集成电路》更多>>
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高集成度复杂光刻版版图的快速巡查与修正技术
《电子工业专用设备》2023年第5期29-35,共7页黄翔宇 纪宝林 马协力 
介绍了一种高集成度复杂光刻版版图的快速巡查与自动修正技术。其主要包括线条修复模块、逻辑处理模块和图形巡查模块。通过对L-edit软件嵌入式程序开发,实现版图中关键图形和易错位置的快速巡查与自动修正处理,大幅提高了先进掩模制造...
关键词:微光刻 光刻版 高集成度 快速巡查 自动修正 
高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术被引量:1
《电子技术应用》2022年第9期67-69,74,共4页黄翔宇 马协力 金焱骅 
介绍了一种高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术。其中包括以下四个模块:chip芯片排布模块、标记排布模块、芯粒数统计模块和自动版号模块。在版图编辑工具L-edit中使用这些模块可以大幅提升微光刻中的高集成度多标记光刻版版图的...
关键词:微光刻 高集成度 快速排布 光刻版 
芯片的自动编号技术被引量:1
《电子技术与软件工程》2022年第8期116-119,共4页马协力 黄翔宇 金焱骅 兰翔 
本文通过C++语言对L-edit软件进行二次开发,采用链表的数据结构来记录数据,实现了在光刻版数据处理过程中对光刻版图中芯片的自动编号,通过实际生产应用,验证了芯片的自动编号程序能够实现对大数据量、多样化的芯片分布图形进行自动编号...
关键词:光刻版 数据处理 芯片 自动编号 
基于LEDIT的STEP光刻版数据图形自动排版被引量:2
《电子技术与软件工程》2021年第7期86-87,共2页黄翔宇 
本文通过C++语言对Ledit软件进行二次开发,采用面向对象的编程方法,实现光刻版版图的快速处理与布局的自动排布。通过生产实践,验证了自动排布程序能够有效缩短设计时间、提高设计效率,加速光掩膜制造的生产周期。
关键词:光刻板 自动排布 二次开发 C++ 
基于双显微视觉的光刻版位姿定位算法被引量:1
《科学技术与工程》2020年第32期13295-13301,共7页吕红阳 陈立国 仲丁元 薛立伟 
江苏省高校自然科学研究项目(17KJA460008)。
光刻版工件移动位姿的精确定位及调整是完成其视觉对位的关键。针对光刻版工件跨尺度级高精度对位的难点,搭建了双显微视觉对位系统,通过双显微视觉的局部位姿检测,解决了工件尺寸与定位精度之间的矛盾。具体方法为:首先采用双显微视觉...
关键词:视觉对位 亚像素边缘检测 RANSAC算法 位姿检测 
深入实施“一号工程”,加快成为数字经济创新先行区
《宁波经济(财经视点)》2020年第4期23-23,共1页
近年来,宁波以"数字产业化、产业数字化"为主线,全面实施数字经济"一号工程",数字经济成为高质量发展的新引擎。《指导意见》的颁布也进一步坚定了这一发展方向。按照《指导意见》要求,集成电路,大力开发展光刻版、大尺寸硅片及高纯度...
关键词:图形图像处理 新引擎 先行区 芯片制造 《指导意见》 集成电路 光刻版 一号工程 
光刻版清洗机中浸泡腔工位设计分析
《清洗世界》2020年第4期19-22,共4页赵宏亮 边晓东 刘建民 高津平 
通过分析光刻版清洗机的结构特性,浸泡腔主要作为IC工艺后制程(BEOL)金属膜腐蚀剥离工艺和去胶工艺,对其中的浸泡工位设计进行了分析,提出了浸泡腔工位设计要点,并介绍了浸泡腔工作流程。
关键词:半导体 光刻版清洗 浸泡腔 
设计模式在光刻版清洗系统软件设计中的应用被引量:1
《电子工业专用设备》2014年第4期38-41,共4页侯为萍 高建利 刘玉倩 
设计模式代表了成功的可复用的优秀设计经验,在系统设计中引入设计模式将有效地提高系统的可扩展性和可维护性。在光刻版清洗系统软件设计中引入了设计模式,介绍了设计模式的概念及使用,描述了单件模式,策略模式和适配器模式在光刻版清...
关键词:光刻版清洗系统 设计模式 软件设计 
全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍被引量:1
《电子工业专用设备》2014年第2期23-27,37,共6页宋文超 刘永进 王刚 张利军 侯为萍 
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。
关键词:半导体 光刻版清洗 单晶圆清洗 自动设备 
全自动光刻版清洗机介绍
《清洗世界》2014年第2期37-41,共5页宋文超 
介绍了中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的全自动光刻版清洗机的工艺原理和工作过程。该设备自用户投入使用以来,大量的产品证明,采用全自动光刻版清洗机对光刻版进行清洗,光刻版洁净度高,工艺效果理想,工艺参数稳定,自动化程度...
关键词:半导体 光刻版清洗 单晶圆清洗 自动设备 
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