宋文超

作品数：16被引量：27H指数：3
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SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
《电子工业专用设备》2022年第4期48-52,共5页宋文超 贾祥晨 李家明 王洪建 刘广杰 
简述了SiC功率器件制造工艺流程,对常用的抛光片清洗、RCA清洗、SPM湿法去胶、有机去胶、SiO2腐蚀、金属腐蚀和金属剥离等湿法设备进行了应用研究,对于提升SiC功率器件成品率起着重要的作用。
关键词：SiC功率器件 抛光片清洗 有机去胶 金属湿法腐蚀 金属剥离 
集成电路湿法工艺与湿法设备制造技术研究被引量：2
《电子工业专用设备》2022年第2期30-35,65,共7页宋文超 李家明 贾祥晨 刘广杰 王洪建 
简述了集成电路制造中的湿法工艺,重点介绍了栅氧清洗、RCA清洗、去胶、氮化硅去除、氧化硅腐蚀等湿法工艺,并对槽式湿法设备的关键制造技术进行了讲解。
关键词：集成电路 湿法工艺 湿法设备 栅氧清洗 湿法去胶 氮化硅腐蚀 
VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究被引量：4
《电子工业专用设备》2021年第6期16-20,共5页宋文超 
简述了VDMOS器件制造工艺流程,介绍了其中常用的RCA清洗、SPM去胶、BOE腐蚀、Al腐蚀等湿法工艺,并对相关湿法设备的配置以及工作原理进行了介绍。
关键词：VDMOS器件 湿法设备 RCA清洗 SPM去胶 BOE腐蚀 铝腐蚀 
一种腐蚀清洗设备中的特异气体监测及处理
《电子工业专用设备》2017年第1期28-30,共3页刘玉倩 关宏武 高津平 宋文超 
在湿法腐蚀清洗设备工艺过程中,使用盐酸和磷酸腐蚀表面材料为磷化铟的晶圆片,会产生一种有毒性的特异气体;针对这种特异气体,设计了一种对反应腔体内、设备内及室内的气体监测处理系统。
关键词：腐蚀清洗 特异气体 监测处理 
太阳能电池制造中化学浓度的预先控制介绍
《电子工业专用设备》2014年第8期25-27,共3页冯小强 祝福生 关宏武 宋文超 
太阳能电池的制造需要许多湿清洗步骤。制绒是这些步骤之一,这个阶段是非常重要的,用它可以确保单晶硅和多晶硅电池片的高效率。为了获得稳定和可循环使用的制造工艺,精确可靠的实时测量刻蚀成分主要针对太阳能电池片生产中化学液浓度...
关键词：太阳能 制绒 化学浓度 控制 
基于CAN总线的机械手通信协议的设计与实现
《电子工业专用设备》2014年第12期23-26,38,共5页刘玉倩 刘永进 宋文超 
描述了一种真空吸片式机械手通信协议的设计方案。机械手通信的硬件实现基于CAN总线,具有高精度、实时性和可靠性高等特点,控制软件在Windows下使用VC++6.0编程,具有友好的人机界面和可操作性。概述了机械手的基本功能和应用领域,详细...
关键词：控制器局域网 机械手 通信协议 自动化 
全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍被引量：1
《电子工业专用设备》2014年第2期23-27,37,共6页宋文超 刘永进 王刚 张利军 侯为萍 
介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程。同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统。
关键词：半导体 光刻版清洗 单晶圆清洗 自动设备 
全自动光刻版清洗机介绍
《清洗世界》2014年第2期37-41,共5页宋文超 
介绍了中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的全自动光刻版清洗机的工艺原理和工作过程。该设备自用户投入使用以来,大量的产品证明,采用全自动光刻版清洗机对光刻版进行清洗,光刻版洁净度高,工艺效果理想,工艺参数稳定,自动化程度...
关键词：半导体 光刻版清洗 单晶圆清洗 自动设备 
光刻版清洗工艺及设备研究被引量：2
《电子工业专用设备》2013年第10期9-11,62,共4页刘永进 刘玉倩 宋文超 
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺及相关设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
关键词：光刻版 清洗 工艺设备 
光刻版清洗工艺及设备研究被引量：1
《电子工业专用设备》2013年第11期19-21,57,共4页刘永进 刘玉倩 宋文超 
光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段。根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果。
关键词：光刻版 清洗 工艺 设备 
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