磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜  

Fabrication of laterally graded periodic Mo/Si multilayer using magnetron sputtering technology

作　　者：涂昱淳[1] 宋竹青[1] 黄秋实[1] 朱京涛[1] 徐敬[1] 王占山[1] 李乙洲 刘佳琪 张力 

机构地区：[1]同济大学物理系精密光学工程技术研究所,上海200092 [2]中国运载火箭研究院试验物理与计算数学实验室,北京100076

出　　处：《强激光与粒子束》2011年第9期2419-2422,共4页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合基金项目(10876023);国家自然科学基金项目(10905042);上海市科委优秀学科带头人项目(09XD1404000);科技部国际交流与合作专项项目(2008DFA01920)

摘　　要：采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3～15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%～65%。A laterally graded multilayer was deposited on silicon substrate by using magnetron sputtering.The d-spacing gradient of 0.03 nm/mm was achieved across a 65 mm long range on the substrate＇s surface,with d-spacing varying linearly from 8.41 nm to 6.57 nm,which was measured by grazing incidence X-ray reflection（GIXR）.Extreme ultraviolet reflectivity was measured in National Synchrotron Radiation Laboratory（NSRL）.The measured reflectivity is 60%~65% at the wavelength range of 13.3 to 15.9 nm.

关 键 词：MO/SI多层膜 磁控溅射 梯度多层膜 反射率 同步辐射 

分 类 号：O434[机械工程—光学工程]