微细加工技术与设备  

出　　处：《中国光学》2003年第1期96-98,共3页Chinese Optics

摘　　要：TN305 2003010743基于一种新微细加工技术的亚波长光栅的研制=Subwavelengthgratings based on a new microfabrication technology[刊,中]/李以贵(上海交通大学微纳米科学技术研究院.上海(200030)),陈迪…//光学学报.-2002,22(8)-1008-1010描述了一种新的亚波长光栅的微细加工技术,即电子束(EB)扫描曝光得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用快速原子束刻蚀设备获得了高深宽比的立体结构。用此加工技术获得了100nm以下的刻蚀精度。

关 键 词：微细加工技术 亚波长光栅 电子技术 技术研究所 扫描曝光 中科院 数学模型 国家重点实验室 科学技术研究 极紫外投影光刻 

分 类 号：TN253[电子电信—物理电子学]