用于微型、纳米卫星三维作图的微型多来电子束曝光系统研究  

Micro-mulitiple E-beam Lithography System for Micro-nano Satellites

作　　者：陶友松 付世民 李达耀 刘志雄[1] 西门纪业[1] 

机构地区：[1]永泉研究所北京研究发展部,北京大学无线电电子学系

出　　处：《仪器仪表学报》1996年第S1期310-313,共4页Chinese Journal of Scientific Instrument

摘　　要：采用微型多束电子束曝光手段研制微型、纳米卫星所用ＭＥＭＳ和ＡＳＩＭ分系统，具有灵活、迅速和设备费用较低的优点。本文介绍一台四束微型电子束曝光系统的总体方案、电子光柱计算、结构设计和扫描电路实验。四条电子束一条适用于微型机械直接光刻，两条适用于ＶＬＳＩ和ＭＭＩＣ，第四条适用于光集成电路。The micro-multiple e-beams lithography system will offers a potential breakthrough for low-cos t, high-throughput manufacturing for MEMS and ASIM sub-sys tems of micro-nano satellites. This article will introduce the configurations, microcolumn,machnical design and scanning circuit of a four e-beams lithography system. The first and second beams are used to make VLSI and MMIC, the third beam is used to write directly micro-mechanical elements,the fourth beam-photo-integrated circuits.

关 键 词：电子束曝光系统 电子束曝光机 纳米卫星 电子光学柱 微型机械 结构设计 离子束 工件台 电气系统 光子束 

分 类 号：V474[航空宇航科学与技术—飞行器设计]