半导体光学材料及制备  

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出  处:《中国光学》1996年第6期57-57,共1页Chinese Optics

摘  要:O472.3 96063944GaAs/Ge<sub>x</sub>Si<sub>1-x</sub>系统的光学性质=Optical propertiesof GaAs/Ge<sub>x</sub>Si<sub>1-x</sub>systems[刊,中]/徐至中(复旦大学物理系.上海(200433))//复旦学报.自然科学版.—1995,34(5).—586—590采用紧束缚方法计算了生长在Ge<sub>x</sub>Si<sub>1-x</sub>合金(001)面上的应变GaAs层的带间光跃迁振子强度,以及生长在Si(001)衬底上的应变超晶格(Si<sub>2</sub>)<sub>4</sub>/(GaAs)<sub>4</sub>的三次非线性光极化率。(严寒)TN304.21 96063945InGaAsP/InP异质结构材料组分及结构的XPS测定=Precise determination & comprehensivestudy of the composition and structure ofMOCVD InP/InGaAsP/InP film[刊,中]/王典芬(武汉工业大学),丁国庆(武汉电信器件公司)

关 键 词:三次非线性光极化率 应变超晶格 光学性质 紧束缚方法 异质结构 跃迁振子强度 材料组分 自然科学版 复旦大学 光学材料 

分 类 号:O472.3[理学—半导体物理]

 

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