CoCr合金薄膜厚度对其结构及磁性的影响  

作　　者：阎明朗[1] 耿胜利[2] 杨正[2] 

机构地区：[1]中国科学院物理研究所 [2]兰州大学磁性材料研究所

出　　处：《信息记录材料》1994年第1期1-3,共3页Information Recording Materials

摘　　要：本文用射频磁控溅射法制备了厚度20～600nm的CoCr合金薄膜。研究了薄膜厚度tm对薄膜结构和磁特性的影响。薄膜生长的初生阶段，存在着一个非晶、混乱取向的动生层。垂直磁各向异性变差的原因是薄膜还没有形成hcp结构。随CoCr薄膜厚度tm的增加，垂直磁特性变好。

关 键 词：薄膜厚度 COCR 合金薄膜 磁特性 薄膜生长 动生 射频磁控溅射法 薄膜结构 垂直磁化 单畴粒子 

分 类 号：O614[理学—无机化学]