检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:孙爱祥[1] 赵广彬[1] 张馨元[1] 蒙志林[1] 栾道成[1]
机构地区:[1]西华大学材料科学与工程学院,四川成都610039
出 处:《真空》2011年第6期32-34,共3页Vacuum
基 金:"高档数控机床与基础制造装备"科技重大专项资助(2009ZX04012-23);四川省特种材料及制备技术重点实验室经费资助
摘 要:采用热阴极离子镀膜技术制备了CrNx薄膜。用XRD和XPS对氧化后试样的相结构和成分进行了研究,分析了高温氧化后薄膜的物相、成分变化对薄膜抗氧化性能的影响。结果表明在700℃薄膜中形成了完整的Cr2O3氧化膜,此时薄膜抗氧化性能较佳。CrNx hard films were prepared by hot cathode ion plating technology. The phase structure and composition of the films oxided at different temperatures were investigated by X-ray diffraction and X-ray photoelectron spectroscopy in an effort to understand the film oxidation resistance. The results show that an integrated Cr2O3 oxide film was formed at 700℃, which played a good role in high temperature oxidation resistance.
关 键 词:CRNX薄膜 热阴极离子镀 抗氧化性 XRD XPS
分 类 号:TG174.444[金属学及工艺—金属表面处理]
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