用于红外探测的短周期InAs/GaSb超晶格材料的生长  

Growth of short-period InAs/GaSb superlattices for infrared sensing

作　　者：汪韬[1] 杨瑾[1,2] 尹飞[1] 王警卫[1] 胡雅楠[1,2] 张立臣[1,2] 殷景致[3] 

机构地区：[1]中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室,陕西西安710119 [2]中国科学院研究生院,北京100049 [3]吉林大学集成光电子国家重点实验室,吉林长春130012

出　　处：《红外与毫米波学报》2011年第6期511-513,550,555,共5页Journal of Infrared and Millimeter Waves

基　　金：国家自然科学基金(60676039)

摘　　要：用金属有机物化学气相淀积法(MOCVD)在GaSb衬底上生长InAs/GaSb超晶格,探索了最佳的生长厚度,优化了各种生长参数,并且分析了源流量控制的重要性.得到的超晶格材料的光致发光(PL)谱、X射线双晶衍射图以及表面形貌图表明,生长的超晶格材料可以响应10μm的长波,且具有良好的表面形貌和外延层质量.The InAs/GaSb superlattice were prepared by metal organic chemical vapor deposition（MOCVD） on GaSb substrate.The optimized thickness and the various growth parameters were explored as well as the importance of source flux control.The photoluminescence（PL） spectra,x-ray diffraction data（XRD） and the surface topography map showed that the superlattice can response to incident light with long wavelength of 10 μm,and has good surface morphology and epitaxial layer quality.

关 键 词：INAS/GASB超晶格 禁带宽度 金属有机物化学气相淀积法(MOCVD) 原子力显微镜(AFM) 光致发光(PL)谱 

分 类 号：TN215[电子电信—物理电子学]