193-nm光刻中的光致抗蚀剂  

作　　者：陈明[1] 陈其道[1] 洪啸吟[1] 

机构地区：[1]清华大学化学系,北京100084

出　　处：《感光科学与光化学》2000年第1期77-84,共8页Photographic Science and Photochemistry

基　　金：国家自然科学基金!资助项目 (批准号 :59773 0 0 7)

关 键 词：化学增幅 抗蚀剂 光刻激光 光源 光致抗蚀剂 

分 类 号：TN305.704[电子电信—物理电子学]