形成连续微光学元件的灰度掩模图形生成方法  

Formation Method of Gray-Scale Mask Patterns Used for Producing Micro Optical Elements

作　　者：周礼书[1] 李学民 杜春雷[1] 霍永峰 张益民 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川成都610209

出　　处：《光电工程》2000年第2期31-34,共4页Opto-Electronic Engineering

基　　金：中国科学院光电技术研究所所长基金资助!( JK980 5 )

摘　　要：针对利用灰度掩模制作连续微光学元件的方法 ,介绍了从元件结构到灰度图形的转换 ,灰度图形的修正 ,灰度图形的数字化以及图形编码等关键步骤。最后给出生成微透镜列阵掩模图形的实例。In view of the manufacturing method of continuous micro optical elements with gray scale mask,the critical steps such as converting from element structure to gray scale patterms,correction of gray scale patterns,digitalization of gray scale patterns and patterns coding are presented.Some practical examples for producing mask patterns of micro lens array are given in the end.

关 键 词：微光学元件 灰度掩模 微型透镜 

分 类 号：TN256[电子电信—物理电子学] TN42