一种简单的衰减相移掩模  

A simpler attenuated phase shifting mask

作　　者：张锦[1] 冯伯儒 侯德胜 周崇喜 姚汉民 郭永康[1] 陈芬 孙方 苏平 

机构地区：[1]四川大学物理系,成都610064 [2]中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室,成都双流610209

出　　处：《激光杂志》2000年第3期64-64,66,共2页Laser Journal

基　　金：中科院重大项目和中科院光电所所长基金资助

摘　　要：:本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。The structure,principle and manufacturing process of a single layer attenuated phaseshifting mask which is compatible with the traditional Cr mask fabrication technology are introduced in this paper.Partial experimental results are provided.

关 键 词：光刻 衰减相移掩模 相移器 单层材料 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]