Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film  

作　　者：Jin Jeong Kyung-Choul Baek Bong-Ju Lee 

机构地区：[1]Department of Physics, Chosun University, 375 Seosuk-dong, Dong-gu, Gwangju 501-759, Korea

出　　处：《材料科学与工程（中英文A版）》2012年第3期341-345,共5页Journal of Materials Science and Engineering A

关 键 词：ZRO2薄膜 射频溅射法 薄膜性能 氧气流量 汇率 薄膜生长 氧分压 氧气分压 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TN304.21[理学—物理]