射频溅射法

作品数：29被引量：63H指数：4
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相关作者：成建波祁康成李军建魏正和于国萍更多>>
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相关期刊：《高分子材料科学与工程》《物理学报》《广西师范大学学报（自然科学版）》《微纳电子技术》更多>>
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植入氮的ZnO薄膜的铁磁性
《金属功能材料》2018年第6期26-26,共1页
Parmod Kumar等人采用射频溅射法在硅基板上制出ZnO薄膜,再植入氮离子。原始ZnO薄膜的饱和磁化强度为2.45×10^3A/m,当离子流为1×10^17离子/cm^2时,植入氮的ZnO饱和磁化强度提高一倍,其光带隙由3.27eV减小为3.04eV。该研究对于在ZnO薄...
关键词：ZNO薄膜 氮离子 铁磁性 植入 饱和磁化强度 射频溅射法 硅基板 离子流 
新型柔性电路自我修复电极
《机械工程师》2014年第2期I0006-I0006,共1页
瑞十科学家日前研制出了一种新型电路，可以应用于人体组织以及隐肜眼镜，具有微小、柔性、透明等特点这种电路被印在厚度仪为1mm的聚对二甲苯（parylene）上，采用电子束蒸发、原子层沉积，旋涂和射频溅射法沉积等技术制造，之后经过...
关键词：柔性电路 自我修复 PARYLENE 原子层沉积 电极 聚对二甲苯 电子束蒸发 射频溅射法 
Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film
《材料科学与工程（中英文A版）》2012年第3期341-345,共5页Jin Jeong Kyung-Choul Baek Bong-Ju Lee 
关键词：ZRO2薄膜 射频溅射法 薄膜性能 氧气流量 汇率 薄膜生长 氧分压 氧气分压 
Zn_(0.96)Mn_(0.04)O薄膜的制备及结构、磁性分析被引量：2
《河北师范大学学报（自然科学版）》2008年第4期474-477,491,共5页刘清华 曲蛟 史彬茹 刘永利 
国家自然科学基金(10774037);河北省自然科学基金(E2007000280)
采用射频溅射法制备了Zn0.96Mn0.04O薄膜样品,并对样品进行了结构和性能的检测,其中使用的靶材是通过标准固态反应法制备的.经过X射线衍射分析,样品均未被发现任何杂质相,都表现为纤锌矿结构.磁性测量表明,薄膜样品在室温下表现出较强...
关键词：Zn0. 96Mn0.04O薄膜 射频溅射法 磁性 
射频溅射法生长ZnO薄膜的参数研究被引量：3
《微纳电子技术》2007年第5期250-253,共4页耿茜 汪建华 王升高 
湖北省科技攻关计划(2002AA105A02)
以ZnO陶瓷为溅射靶材,通入纯氩气,使用射频溅射法在玻璃基片上制备ZnO薄膜,研究了气体压强、基片温度、溅射功率等对薄膜性质的影响。通过XRD及原子力显微镜(AFM)等检测得出制备C轴(002)ZAO薄膜的最佳工艺条件为:溅射压强0.4Pa;溅射功率...
关键词：ZnO陶瓷靶材 薄膜 射频 X射线衍射分析 原子力显微镜 
射频溅射法在CeO_2/YSZ/Y_2O_3/NiW衬底上制备YBCO超导层被引量：4
《稀有金属》2007年第2期245-247,共3页张华 杨坚 刘慧舟 屈飞 
国家重点基础研究发展计划("973计划")(2006CB601005);北京有色金属研究总院青年基金资助项目
用射频溅射的方法在强立方织构的CeO2/YSZ/Y2O3/NiW衬底上制备了YBCO超导层. 温度、气压等因素对超导层的外延生长有重要影响. 在基片温度大于780 ℃, 气压在11～160 Pa之间, 都有NiWO4化合物生成;在退火吸氧过程中, 金属基底被氧化. ...
关键词：YBCO 溅射 衬底 织构 
ZAO薄膜使用射频溅射法生长之参数的研究被引量：2
《应用化工》2006年第12期910-912,917,共4页耿茜 汪建华 王升高 
湖北省科技攻关计划(2002AA105A02);湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队资助计划项目
以氧化铝锌陶瓷为溅射靶材,在氩气环境下,使用射频溅射法在玻璃基片上制备氧化铝锌(ZAO)薄膜。通过调节气体压强、基片温度、溅射功率制膜,得到以C轴(002)为选择取向的氧化锌薄膜。由XRD、原子力显微镜(AFM)等对薄膜进行分析。结果表明...
关键词：ZAO陶瓷靶材 ZAO薄膜 RF溅射 XRD 原子力显微镜 
射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO_2薄膜性能比较被引量：3
《暨南大学学报（自然科学与医学版）》2006年第3期393-397,共5页吴奎 叶勤 
广东省自然科学基金(04010480)资助项目;广州市科技计划项目(2003Z3-D2011)
采用射频磁控溅射法和电弧离子镀法制备了纳米TiO2薄膜,并利用XRD、UV-VIS、AFM及通过亲水性和光催化实验对两种方法制备的TiO2薄膜进行了对比表征.结果表明,磁控溅射法的薄膜生长速率只有电弧离子镀法的1/30;前者仅需较低的退火温度就...
关键词：射频磁控溅射 电弧离子镀 TIO2薄膜 亲水性 光催化 
蓝宝石衬底上射频溅射法生长CeO_2外延薄膜研究被引量：4
《低温物理学报》2005年第3期234-240,共7页熊杰 陶伯万 谢廷明 陈家俊 刘兴钊 张鹰 李金隆 李言荣 
实验采用射频溅射法在(1 102)蓝宝石基片上制备(00l)取向CeO2外延薄膜.低温、低溅射功率都会导致CeO2薄膜呈(111)取向生长.当基片温度在700℃～750℃,溅射功率在100～150W范围内能够制备得到高质量(00l)取向CeO2缓冲层.所制备的CeO2薄...
关键词：YBCO超导薄膜 CeO2缓冲层 外延生长 CeO2薄膜 取向生长 射频溅射法 外延薄膜 蓝宝石衬底 YBA2CU3O7-Δ 微波表面电阻 临界转变温度 临界电流密度 
用于微测辐射热计的氧化钒薄膜制备
《真空科学与技术学报》2005年第z1期51-53,56,共4页王利霞 李建平 何秀丽 高晓光 
采用射频(RF)反应溅射法,在微结构衬底上制备氧化钒薄膜,研究了氧气压、衬底温度、退火条件及薄膜厚度对薄膜电阻及电阻温度系数(TCR)的影响.在氮气保护下,采用常规退火和快速升降温退火对薄膜进行热处理.结果表明:氧分压、退火条件和...
关键词：氧化钒 射频溅射法 电阻温度系数 
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