光学光刻和双面光刻技术  

作　　者：何锦涛 丁元萍 

出　　处：《电子技术参考》2000年第1期49-54,共6页

关 键 词：光学曝光 双面光刻 光学光刻 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]