激光干涉光刻技术应用概述  

Technologies and applications of laser interference lithography

作　　者：贺海东[1] 杨海峰[1] 

机构地区：[1]中国矿业大学机电工程学院,徐州221008

出　　处：《现代制造工程》2012年第6期1-5,共5页Modern Manufacturing Engineering

基　　金：国家自然科学基金项目(51105360);江苏省自然科学基金项目(BK2011218);清华大学摩擦学国家重点实验室开放基金项目(SKLTKF10B06)

摘　　要：激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术,具有设备结构简单、价格低廉、高效率、高分辨率和大视场曝光等特点。介绍通过激光干涉光刻产生的一维光栅结构、二维网格结构以及二维点阵结构在生物传感、太阳能电池和光子晶体等领域的应用前景。As a newly developing lithographic process,laser interference lithography has advantages of simple equipment, cost ef- fective, great efficiency ,high resolution, large areas processing and so on. The 1D ,2D nanostructures, based on laser interference lithography has very promising application prospects in biosensors, solar cells, photonic crystals, etc.

关 键 词：激光技术 光刻 纳米结构 

分 类 号：TB43[一般工业技术] TQ591[化学工程—精细化工]