磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术  

The Development of Power Sources for Magnetron Sputtering TCO Thin Films

作　　者：陈宇 李民英 

机构地区：[1]广东志成冠军集团有限公司

出　　处：《电力电子》2012年第3期14-18,共5页Power Electronics

摘　　要：电源在磁控溅射法制备透明导电氧化物(TCO)薄膜的技术中起着重要的作用。本文重点介绍了磁控溅射TCO薄膜的电源技术发展现状及进展,首先简要说明了目前应用最广泛的直流电源技术及具备灭弧能力的脉冲电源技术的原理和主要优缺点。进一步的,介绍了具备快速灭弧补偿功能的新型直流电源技术和模块化电源技术。最后进一步分析了代表新一代技术的高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)电源的基本原理和优良特性,并指出其发展所面临的挑战。

关 键 词：TCO薄膜 磁控溅射 电源 HPPMS 

分 类 号：TM911.4[电气工程—电力电子与电力传动]