云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- HPPMS

HPPMS: 作品数：11被引量：28H指数：3; 导出分析报告; 相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>; 相关作者：杨士勤巩春志桂刚田修波冷永祥更多>>; 相关机构：西南交通大学哈尔滨工业大学冠军集团有限公司广东工业大学更多>>; 相关期刊：《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》《真空科学与技术学报》《真空》《电力电子》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金表面物理与化学国家重点实验室开放基金更多>>

双级HPPMS靶电流对TiN镀层微观结构及耐蚀性的影响被引量：4: 《稀有金属材料与工程》2020年第9期2991-2996,共6页郝娟蒋百灵杨超杜玉洲王戎; National Natural Science Foundation of China(51271144)。; 为了解决传统高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)平均沉积速率低的问题,研究提出一种新型的双级HPPMS技术,即在一个脉冲周期内具有两个连续的、独立可调的脉冲阶段。通过对双级HPPMS电场的合理调配,可制备得到结构致密的TiN镀层,研究了双级HPPM...; 关键词：双级HPPMS 靶电流沉积速率

大型复合承力筒星箭连接环HPPMS离子注入与沉积: 《西北工业大学学报》2018年第S01期56-62,共7页夏振涛王珂韩海波程涛; 上海市青年科技英才扬帆计划项目(16YF1411100)资助。; 基于高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)的离子注入与沉积是一种新的星箭连接环表面处理方法,能够在星箭连接环表面制备致密、高结合力的膜层,满足热控性能和防冷焊要求。针对某复合承力筒星箭连接环的特点,进行了基于高功率脉冲磁控溅射的离子...; 关键词：星箭连接环表面处理高功率脉冲磁控溅射离子注入与沉积

Characterization of Ti-Cu Films Deposited by HPPMS and Effect on NO Catalytic Release and Platelet Adhesion Behavior: 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》2018年第2期505-511,共7页陈涛 CHENG Dan TAI Yuandong 景凤娟 SUN Hong XIE Dong LENG Yonxiang HUANG Nan KEN Yukimural; Funded by the National Natural Science Foundation of China(No.31300787);the National Natural Science Foundation of China China Academy of Engineering Physics(NSAF No.U1330113);the Overseas Famous Teacher Program of Chinese Education Ministry(MS2010XNJT070);the Qingmiao Plan of SWJTU 2015(No.A0920502051517-6); Ti-Cu films with different Cu concentrations were fabricated by high-power pulsed magnetron sputtering（HPPMS） to release copper ions and catalyze NO to improve the blood compatibility. The Cu concentrations of films...; 关键词：Ti-Cu film copper ions nitrogen oxide platelet adhesion high-power pulsed magnetron sputtering

调制中频高功率脉冲磁控溅射电源的设计: 《无线互联科技》2015年第18期55-56,共2页张凤晓王浪平; 文章指出叠加直流的HPPMS技术有直流部分占空比较高和不可控制2大缺点,在做沉积薄膜实验时无法提供溅射所需的高功率,导致空比较低,溅射效率稍低的高功率脉冲产生。为了解决问题,需要研制一台电源,并且该电源可以用中频调制脉冲高功率...; 关键词：调制脉冲磁控溅射 HPPMS MPP

高功率脉冲磁控溅射等离子体特性与动力学研究进展（英文）被引量：5: 《中国科学院大学学报（中英文）》2015年第2期145-154,共10页夏原高方圆李光; Supported by the Research Equipment Development Project of Chinese Academy of Sciences(YZ201135); 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)作为一项极具发展前途的物理气相沉积新技术,近年来引起学术界和工业界的广泛关注.HIPIMS技术(也被称为HPPMS)可以提供足够的放电功率来获得极高的电流密度,数值达到几个A·cm-2;同时,可以得到1019m-3量级的...; 关键词：HIPIMS HPPMS 等离子体动力学放电特性高离化率

脉冲电压对HPPMS制备CrN薄膜的组织结构与力学性能的影响被引量：5: 《真空科学与技术学报》2014年第10期1035-1039,共5页夏飞张栋邹长伟柯培玲王启民汪爱英; 广州市珠江科技新星专项项目(2011J2200036);广东省教育厅"珠江学者"高层次人才项目; 采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜。分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织结构和力学性能的影响。结果表明,随着脉冲电压的增加,靶材离化率增加,靶电流以及溅射原子离子数量级能...; 关键词：高功率脉冲磁控溅射脉冲电压 CRN薄膜组织结构硬度

Microstructure and corrosion resistance of vanadium films deposited at different target-substrate distance by HPPMS被引量：2: 《Rare Metals》2014年第5期587-593,共7页Chun-Wei Li Xiu-Bo Tian Tian-Wei Liu Jian-Wei Qin Chun-Zhi Gong; financially supported by the National Natural Science Foundation of China (Nos. 51175118 and U1330110);the Open Foundation of Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory (No. SPC201104); High power pulsed magnetron sputtering（HPPMS）, a novel physical vapor deposition technology, was applied to prepare vanadium films on aluminum alloy substrate in this paper. The influence of target–substrate dista...; 关键词：High power pulsed magnetron sputtering Vanadium films Target–substrate distance MICROSTRUCTURE Corrosion resistance

溅射气压对铝合金表面HPPMS沉积钒薄膜摩擦学性能的影响被引量：1: 《稀有金属材料与工程》2013年第5期1017-1022,共6页李春伟田修波刘天伟秦建伟巩春志杨士勤; 国家自然科学基金(51175118);表面物理与化学国家重点实验室开放基金(SPC201104); 采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术,在铝合金基体上制备V薄膜。研究溅射气压对V薄膜相结构、表面形貌及摩擦学性能的影响。结果表明:不同气压下制备的V薄膜中的V相仅沿(111)晶面生长,其衍射峰强度先增强后减弱,当气压为0.5Pa时,衍射峰...; 关键词：高功率脉冲磁控溅射(HPPMS) V薄膜溅射气压摩擦系数退火

磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术被引量：1: 《电源世界》2012年第7期21-25,共5页陈宇李民英; 电源在磁控溅射法制备透明导电氧化物(TCO)薄膜的技术中起着重要的作用。本文重点介绍了磁控溅射TCO薄膜的电源技术发展现状及进展,首先简要说明了目前应用最广泛的直流电源技术及具备灭弧能力的脉冲电源技术的原理和主要优缺点。进一步...; 关键词：TCO薄膜磁控溅射电源 HPPMS

磁控溅射法沉积TCO薄膜的电源技术: 《电力电子》2012年第3期14-18,共5页陈宇李民英; 电源在磁控溅射法制备透明导电氧化物(TCO)薄膜的技术中起着重要的作用。本文重点介绍了磁控溅射TCO薄膜的电源技术发展现状及进展,首先简要说明了目前应用最广泛的直流电源技术及具备灭弧能力的脉冲电源技术的原理和主要优缺点。进一步...; 关键词：TCO薄膜磁控溅射电源 HPPMS

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