退火对ZnMnO:N薄膜p型转变的影响  

作　　者：南貌[1] 

机构地区：[1]宝鸡职业技术学院电子信息工程系,陕西宝鸡721013

出　　处：《科技视界》2012年第25期149-149,195,共2页Science & Technology Vision

摘　　要：采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备出具有高结晶质量的ZnO:Mn薄膜,经N离子注入和退火处理,成功实现了ZnMnO:N薄膜的p型转变。

关 键 词：射频磁控溅射 Mn-N共掺杂 离子注入 P型ZNO薄膜 退火 

分 类 号：TN304.21[电子电信—物理电子学]