光学邻近效应的产生机理分析  

Analysis of physical mechanism on optical proximity effect

作　　者：石瑞英[1] 郭永康[1] 曾阳素[1] 黄晓阳 

机构地区：[1]四川大学物理系,成都610064 [2]中国科学院微电子中心

出　　处：《激光杂志》2000年第4期43-45,共3页Laser Journal

基　　金：国家自然科学基金;教育部博士点基金;微细加工光学技术国家重点实验室基金资助项目

摘　　要：基于部分相干成像理论 ,考虑了投影曝光系统成像的非线性滤波特点 ,分析了投影光刻中的光学邻近效应 (OPE)产生的机理 ,模拟了掩模上线条的线宽、线间距的变化对光刻成像质量的影响。Based on partial coherent imaging theory and nonlinear filter characteristic of projection system for the aerial image,we analyze the physical mechanism on Optical Proximity Effect.The simulation imaging patterns of the different line or space width are given for analyzing image quality.

关 键 词：光学邻近效应 相干成像 投影光刻 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]