化学增幅型光致抗蚀剂用光产酸剂  

Photoacid gGnerators for Chemically Amplified Photoresists

作　　者：孟磊[1] 刘玉芹[2] 王金铃 徐娜[4] 

机构地区：[1]吉林化工学院材料科学与工程研究中心,吉林吉林132022 [2]中国石油吉林石化公司乙烯厂,吉林吉林132022 [3]吉林市龙潭区第二实验幼儿园,吉林吉林132021 [4]吉林化工学院研究生处,吉林吉林132022

出　　处：《吉林化工学院学报》2012年第11期45-47,共3页Journal of Jilin Institute of Chemical Technology

摘　　要：综述了用于化学增幅型光致抗蚀剂的光产酸剂及机理,对于几种常用的离子型和非离子型光产酸剂分别进行了阐述,并对其特性和应用做了简单介绍.Various kinds of photoacid generators for chemically amplified photoresists and their reaction mechanism of acid amplification are reviewed. The characteristics and application of these materials are also introduced.

关 键 词：化学增幅 光致抗蚀剂 光产酸剂 

分 类 号：TN304[电子电信—物理电子学]