硅基多孔氧化铝薄膜的解理断裂特性  

作　　者：濮林[1] 朱健民[1] 吴俊辉[1] 邹建平[1] 周舜华[1] 鲍希茂[1] 李齐[1] 冯端[1] 

机构地区：[1]南京大学物理系固体微结构国家实验室,南京210093

出　　处：《电子显微学报》2000年第4期471-472,共2页Journal of Chinese Electron Microscopy Society

基　　金：国家自然科学基金资助项目 !(5 9832 10 0 );攀登计划资助项目

关 键 词：硅基 多孔氧化铝薄膜 解理断裂特性 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]