场致电子发射技术分析  

Reseach of Field Electron Emission Technology

作　　者：张连俊[1] 赵立芳[1] 罗恩泽[2] 

机构地区：[1]山东工程学院,山东淄博市255012 [2]西安电子科技大学,西安市710071

出　　处：《电子器件》2000年第3期210-213,共4页Chinese Journal of Electron Devices

摘　　要：本文介绍了场致发射的机理及场致发射的几种不同类型的阴极 ,叙述了类金刚石薄膜作为场致发射阴极的优点 ,最后对场致发射的应用进行了分析。In this paper, the theory of field electron emission and the charcteristics of field emission emitters are introduced. The advantage of diamond like film is described. The applications of field emission device are also introduced.

关 键 词：场致发射 阴极 类金刚石薄膜 场致发射器件 

分 类 号：TN132[电子电信—物理电子学]