浅谈硫酸盐光亮镀铜中的毛刺和粗糙  

作　　者：王士磊[1] 

机构地区：[1]青岛安普泰科电子有限公司,山东青岛266108

出　　处：《电镀与环保》2013年第3期54-56,共3页Electroplating & Pollution Control

摘　　要：0前言 硫酸盐光亮镀铜工艺具有镀液成分简单且容易控制、镀液的整平性及分散能力好、电流密度范围宽、镀层光亮度高及废水处理简单等优点，被广泛应用于防护装饰性五金电镀、塑料电镀、电铸、制版以及印制线路板（PCB）和图形电镀中。虽然硫酸盐光亮镀铜工艺已经非常成熟，但在实际电镀生产中经常出现各种故障，其中镀层毛刺和粗糙较为多见。笔者根据电镀生产实践中的经验，并参阅了一些资料，详细介绍了酸铜镀层产生毛刺的原因以及排除方法和预防措施。

关 键 词：硫酸盐 毛刺 光亮镀铜 粗糙 电流密度范围 镀液成分 镀铜工艺 塑料电镀 

分 类 号：TQ153[化学工程—电化学工业]