大尺寸中阶梯光栅铝膜均匀性研究  

Uniformity of large size echelle grating substrate film

作　　者：张方程[1] 于海利[1] 周敬萱[1] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033

出　　处：《长春工业大学学报》2013年第2期195-199,共5页Journal of Changchun University of Technology

基　　金：国家重大科研装备研制基金资助项目(ZBY2008-1);吉林省重大科技攻关基金资助项目(09ZDGG005)

摘　　要：以内径1.1m的大尺寸中阶梯光栅镀膜机为例,设计了提高膜厚均匀性的修正挡板,并应用到了镀膜机中。在520mm×520mm的镀膜面积范围内,膜层厚度的均匀性误差从±6%降低至±0.96%,满足大尺寸中阶梯光栅研制的膜厚均匀性要求。Taking 1. 1 meter internal diameter coating machine as an example, a correction baHle is designed to improve the film uniformity. The results show that the uniformity error ok the film surface is reduced from ±6% to ±0.96% in the 520 mm × 520 mm dimension. It can meet the requirement of large size echelle gratings.

关 键 词：镀膜机 中阶梯光栅 膜层均匀性 

分 类 号：TH744[机械工程—光学工程]