IC离子注入工艺的薄层电阻等值图监控  

Monitor of Ion Implantation in IC Process by Contour Map of Sheet Resistance

作　　者：周全德[1] 

机构地区：[1]上海市计量测试技术研究院，上海 200233

出　　处：《微电子学》2000年第6期410-414,共5页Microelectronics

摘　　要：主要介绍了测试薄层电阻等值图所反映出 IC离子注入工艺存在的种种问题 ,以及改进结果和进行有效的监控 ,这对 IC生产是非常重要的。Problems with ion implantation in IC process are discussed. Improvement and effective monitoring based on the contour map o f sheet resistance are described in the paper.

关 键 词：薄层电阻 等值图 离子注入 集成电路工艺 

分 类 号：TN405.3[电子电信—微电子学与固体电子学]