光学光刻仍是下一代ULSI规模生产的主导光刻技术  

作　　者：刘文辉 

机构地区：[1]中国技术经济学会

出　　处：《电子工业专用设备》1991年第3期14-23,共10页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：本文从工业化生产的观点,对各种光刻技术进行ULSI规模生产的能力及问题给以简要比较说明,提出发展光学光刻技术作为下一代0.35μm和0.25μmULSI工业化生产的主导光刻技术,是光刻技术本身发展和半导体工业发展的必然。

关 键 词：ULSI 光刻技术 光学光刻 集成电路 

分 类 号：TN470.57[电子电信—微电子学与固体电子学]