应用材料公司发布高性能晶体管创新外延技术  

出　　处：《科技创业》2013年第8期F0003-F0003,共1页

摘　　要：应用材料公司在AppliedCentura@RP Epi系统设备上新开发了一套NMOS晶体管应用技术。该应用技术的开发符合行业在20纳米节点时将外延沉积从PMOS（P型金属氧化物半导体）向NMOS（N型金属氧化物半导体）晶体管延伸的趋势，推动芯片制造商打造出更快的终端，提供下一代移动计算能力。

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分 类 号：TN386.1[电子电信—物理电子学]