遗传算法在湿法刻蚀设备温度PID控制中的应用  

Genetic Algorithm in the Wet Etching Equipment Temperature Control

作　　者：孙敏[1] 张金凤[1] 郑佳晶[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176

出　　处：《电子工业专用设备》2014年第1期31-34,共4页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：在湿法刻蚀的工艺过程中,影响刻蚀速度和刻蚀效果的元素有很多,温度是其中一个关键因素,所以在湿法刻蚀设备研制中对温度精度的控制成为重要技术之一。使用基于遗传算法的PID控制方法来实现对温度的控制,进行仿真以及和传统PID控制比较,在实际应用中得到了很好的结果。In the wetetching process, the reason of etching speed and effect is very more, temperature is the key factor, the controlling of temperature precision is the one of important technology. The method of control temperature is PID control process basing on the genetic algorithm in this article, and this method obtains very wellresult in the simulation and actualapplication.

关 键 词：遗传算法 湿法刻蚀 PID 控制 温度 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]