ITO透明导电薄膜XPS深度剖面分析  

ANALYSIS ON DEPTH PROFILES OF ITO TRANSPARENT CONDUCTIVE FILMS BY XPS

作　　者：范垂祯 谢舒平[2] 杨得全[2] 

机构地区：[1]豪威科技集团有限公司,广东深圳518057 [2]兰州物理研究所,甘肃兰州730000

出　　处：《真空与低温》2001年第1期18-20,共3页Vacuum and Cryogenics

摘　　要：介绍了镀制 SiO2的 ITO透明导电薄膜的性能特点，描述了用 X射线光电谱仪对典型产品深度剖面的分析过程，给出了实验结果。The properties of ITO transparent conductive films coated with SiO2 are introduced.The process of analysis on the depth profiles of the samples by XPS is described and the results are given.

关 键 词：ITO透明导电薄膜 X射线光谱仪 深度剖面分析 二氧化硅玻璃 镀膜 

分 类 号：TQ171.68[化学工程—玻璃工业] O484[化学工程—硅酸盐工业]