微机械加工中的RIE技术  

Reactive Ion Etching for Micromechanical Manufacture

作　　者：孙承龙[1] 王德宁[1] 王渭源[1] 

机构地区：[1]中科院传感技术联合开放实验室

出　　处：《传感器技术》1992年第6期8-11,共4页Journal of Transducer Technology

摘　　要：简述了反应离子刻蚀(RIE)技术在微型传感器部件加工制造中的应用,报道了采用NF_3、SF_6等气体反应离子刻蚀Si的实验结果,研制出了φ300μm的微型Si齿轮。The application of reactive ion etching (RIE) technigue to microme-chanical manufacture of transducers is briefly presented.Experimental results of RIE of Si using VF3 and SF8 gases are reported,By means of RIE technigue gears with a diameter of 300μm are obtained.

关 键 词：离子刻蚀 RIE微机械加工 传感器 

分 类 号：TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]