亚分辨图形相移掩模的制作方法  

Fabrication Process of Phase-Shifting Masks With Sub-resolution Patterns

作　　者：冯伯儒[1] 张锦[1] 陈宝钦[2] 侯德胜[1] 苏平[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209 [2]中国科学院微电子中心,北京100029

出　　处：《微细加工技术》2001年第2期14-19,共6页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目! (6 92 76 0 18;6 9776 0 2 8);微细加工光学技术国家重点实验室基金资助项目! (KFS990 1)

摘　　要：介绍亚分辨图形掩模的原理、应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺。Described are principles,applications and fabrication process of conventional masks and phase-shifting masks with sub-resolution pattems.

关 键 词：亚分辨 相移掩膜 图形处理 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]