检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
机构地区:[1]华中大学计算机学院外存储系统国家专业实验室 [2]中国船舶重工集团华中光电技术研究所光电二部,,武汉430074 [3]光电子工程系
出 处:《微细加工技术》2001年第2期67-70,共4页Microfabrication Technology
基 金:2000年中国博士后科学基金资助项目;湖北省自然科学基金资助项目!(2 0 0 0JI50 )
摘 要:讨论了光刻热熔成形工艺灰度掩模技术结合离子束蚀刻制作面阵尖形微结构器件的问题 ,分析了几种凸尖及凹尖结构抗入射激光烧蚀的能力强于平面端面同质器件的原因 ,所作的若干分析结果可用于这类器件的实际制作和应用。The fabrication of large-area microtip structure device using thermal treatment technology,gray-scale mask technique and ion beam etching, is discussed. The several devices with convex and concave tip structures,have better antilaser-ablation perfomance than the devices with planar face, and the reasons are analyzed.The several analysis results can be used for fabrication and application of this kind of device practically.
关 键 词:尖形微结构 离子束蚀刻 抗激光烧蚀 能力 微结构器件
分 类 号:TN305.7[电子电信—物理电子学] TN403
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