离子束蚀刻

作品数：20被引量：16H指数：3
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一种基于Ni80Cr20薄膜的高精度中性密度滤光片的制备方法
《光学仪器》2021年第6期70-76,共7页郭谟强 黄元申 
上海市自然科学基金项目(19ZR1436100)。
Ni80Cr20合金薄膜在可见光波段展现出很好的光学中性度。真空镀膜系统中石英晶振膜厚传感器的测量误差是导致薄膜的实际光密度值偏离设定值的主要原因。为此,提出了一种提高中性密度滤光片光密度值精度的制备方法,即采用真空镀膜结合离...
关键词：中性密度滤光片 Ni80Cr20 光密度 离子束蚀刻 
10月事记
《初中生学习指导》2021年第29期62-63,共2页王洋 
10月1日(1949年)中华人民共和国宣告成立。10月2日(1949年)国际和平和民主自由斗争日。每年这天,全世界多数国家都举行和平示威,用和平力量来制止战争行为。10月3日(2011年)英国诺丁汉大学利用离子束蚀刻机在头发上“雕刻”了世界上最...
关键词：英国诺丁汉大学 民主自由 离子束蚀刻 元素周期表 示威 和平力量 制止 
氩离子束蚀刻加工的柱体微透镜阵列
《云光技术》2006年第3期42-48,共7页Xinyu Zhang 
理论研究表明，氩离子束蚀刻加工柱体非球面微透镜阵列，柱体球面微透镜阵列和微棱镜阵列具有巨大潜力。实验结果证明，硅（Si）基片上表面轮廓为球面和椭圆面柱体微透镜阵列，表面质量好，均匀一致性佳。给出各种基片材料例如ZrO2，InP...
关键词：折射柱体微透镜阵列 离子束蚀刻 
深亚微米/纳米CMOS器件离子蚀刻新技术
《半导体技术》2005年第1期35-40,共6页成立 王振宇 武小红 范木宏 祝俊 赵倩 
江苏省高校自然科学研究基金项目(02KJB510005)
综述了制备深亚微米/纳米CMOS器件的离子蚀刻新技术:考夫曼(Kaufman)离子铣蚀刻、氟基气体多晶硅蚀刻、氯基或溴基气体硅深蚀刻、电子回旋共振(ECR)蚀刻系统和电感耦合等离子体蚀刻器(ICPE)等,并对比分析了上述蚀刻技术各自的优缺点及...
关键词：超大规模集成电路 纳米CMOS器件 离子束蚀刻 考夫曼离子源 电子回旋共振 电感耦合等离子体蚀刻器 
蚀刻表面面形的分析被引量：3
《光子学报》2002年第7期887-893,共7页张殿文 卢振武 曹召良 李凤友 赵晶丽 裴舒 刘玉玲 王肇圻 
采用一个有效的数学模型 ,分析了在蚀刻工艺中基底自身面形轮廓的曲线形状对基底局部区域的蚀刻速率产生的影响 ,并通过对数学模型的理论分析和计算机模拟得出受此影响而产生的面形形状 ,并将结果与实验进行对比 .利用这个数学模型对使...
关键词：蚀刻 表面面形 离子束蚀刻 光栅 表面浮雕结构 准单向蚀刻效应 衍射光学元件 数学模型 
电子工艺
《电子科技文摘》2002年第6期43-44,共2页
Y2002-63059-469 0210737IC制造工艺扩展方案限制:器件制作和电路性能说明=Extending resolution limits of IC fabrication technolo-gy:Demonstration by device fabrication and circuit per-formance〔会,英〕/Nalamasu,O.//2001 IE...
关键词：电子工艺 fabrication 器件制作 制造工艺 电路性能 limits 主轴系统 投影光刻机 视觉系统 离子束蚀刻 
用于近场集成光学头的面阵平面微透镜被引量：1
《光学技术》2002年第2期176-178,共3页张新宇 裴先登 谢长生 
00 0年中国博士后科学基金资助项目 ;国家重点基础研究 973资助项目 (G1 9990 330 )
讨论了采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术制作非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜的情况。定性地分析了在不同的工艺条件下可能得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征。给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氢离子束蚀刻...
关键词：非梯度折射率 平面微透镜 离子束蚀刻 溅射 近场集成光学头 
用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版被引量：5
《强激光与粒子束》2002年第1期129-133,共5页张新宇 汤庆乐 张智 易新建 裴先登 
国家自然科学基金 ( 6 97730 74);国家重点基础研究 973资助课题 ( G19990 330 ) ;2 0 0 0年湖北省自然科学基金重点项目
采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英 DNA芯片模版 ,利用扫描电子显微镜 ( SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英 DNA芯片模版的表面微结构形貌特征 ,分析了所制石英 DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更...
关键词：离子束蚀刻 光刻 DNA芯片模版 
提高抗激光烧蚀能力的表面尖形微结构器件被引量：1
《微细加工技术》2001年第2期67-70,共4页张新宇 汤庆乐 张智 裴先登 
2000年中国博士后科学基金资助项目;湖北省自然科学基金资助项目!(2 0 0 0JI50 )
讨论了光刻热熔成形工艺灰度掩模技术结合离子束蚀刻制作面阵尖形微结构器件的问题 ,分析了几种凸尖及凹尖结构抗入射激光烧蚀的能力强于平面端面同质器件的原因 ,所作的若干分析结果可用于这类器件的实际制作和应用。
关键词：尖形微结构 离子束蚀刻 抗激光烧蚀 能力 微结构器件 
非梯度折射率型面阵平面微透镜
《微细加工技术》2001年第2期76-80,共5页张新宇 汤庆乐 张智 裴先登 
2000年中国博士后科学基金资助项目;湖北省自然科学基金资助项目! (2 0 0 0J150 )
采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术 ,结合离子束蚀刻与溅射制作面阵非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜 ,定性分析了不同的工艺条件下所得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征 ,给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氩离...
关键词：非梯度折射率 平面微透镜阵列 离子束蚀刻 溅射 光刻 
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