张殿文

作品数：4被引量：27H指数：3
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供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文主题：光刻衍射光学元件计算全息图极坐标英文更多>>
发文领域：自动化与计算机技术机械工程电子电信更多>>
发文期刊：《光学精密工程》《光子学报》《光电子．激光》更多>>
所获基金：国家自然科学基金更多>>
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蚀刻表面面形的分析被引量：3
《光子学报》2002年第7期887-893,共7页张殿文 卢振武 曹召良 李凤友 赵晶丽 裴舒 刘玉玲 王肇圻 
采用一个有效的数学模型 ,分析了在蚀刻工艺中基底自身面形轮廓的曲线形状对基底局部区域的蚀刻速率产生的影响 ,并通过对数学模型的理论分析和计算机模拟得出受此影响而产生的面形形状 ,并将结果与实验进行对比 .利用这个数学模型对使...
关键词：蚀刻 表面面形 离子束蚀刻 光栅 表面浮雕结构 准单向蚀刻效应 衍射光学元件 数学模型 
直角坐标和极坐标系一体的激光直写设备(英文)被引量：13
《光子学报》2002年第5期616-619,共4页李凤友 卢振武 谢永军 张殿文 
National Natural Science Foundation( 6 0 0 780 0 6 )
介绍了具有直角坐标和极坐标写入系统的激光直写设备 。
关键词：直角坐标 极坐标 激光直写设备 衍射光学元件 计算全息图 光刻 写入系统 
激光直接写入工艺的研究被引量：5
《光电子．激光》2001年第9期949-952,共4页李凤友 卢振武 张殿文 李红军 赵晶丽 丛小杰 翁志成 
国家自然科学基金资助项目 ( 6 0 0 780 0 6 )
本文介绍了四轴激光直接写入系统 ,对激光直接在光刻胶上写入图形的工艺进行了研究 ,讨论了在不同离焦情况下 ,胶层内光斑的大小和强度分布 ,采用离焦的方法在光刻胶上刻画了周期为 2 0μm的线光栅和线宽为 10 μm的分划板 。
关键词：激光直接写入 离焦 光刻 
面向对象分析、设计与编程被引量：6
《光学精密工程》2000年第6期568-571,共4页张殿文 卢振武 
在软件工程中 ,作为软件开发的一种实用而有效的途径——面向对象方法 ,由于具有很多独特的优点 ,已逐步得到软件开发人员的广泛应用。本文从软件工程的角度 ,通过对面向对象方法的基本组成部分——面向对象分析、面向对象设计和面向对...
关键词：面向对象语言 面向对象分析 面向对象设计 
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