用光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版  

DNA microarray plate in quartz glass substrate fabricated by ion beam etching

作　　者：张新宇[1] 汤庆乐[2] 张智 易新建[3] 裴先登[1] 

机构地区：[1]华中科技大学计算机学院外存储系统国家专业实验室,湖北武汉430074 [2]中国船舶重工集团华中光电技术研究所,湖北武汉430074 [3]华中科技大学光电子工程系,湖北武汉430074

出　　处：《强激光与粒子束》2002年第1期129-133,共5页High Power Laser and Particle Beams

基　　金：国家自然科学基金 ( 6 97730 74);国家重点基础研究 973资助课题 ( G19990 330 ) ;2 0 0 0年湖北省自然科学基金重点项目

摘　　要：采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英 DNA芯片模版 ,利用扫描电子显微镜 ( SEM)和表面轮廓仪测试了所制石英 DNA芯片模版的表面微结构形貌特征 ,分析了所制石英 DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵The DNA microarray plates in quartz glass substrates are fabricated using a multiple-process, including photolithography, heat treatment, and ion beam etching. Both the scanning electron microscope and surface style measurement are carried out to determine the dimension and the surface morphology of the devices. The reason of the shape distortion of DNA microarray plate in quartz glass substrate is analyzed. The coupling method of the quartz glass plate and the DNA sample is discussed. The techniques utilized can be applied to fabricate the DNA microarray plate of larger.

关 键 词：离子束蚀刻 光刻 DNA芯片模版 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]