用于微器件制作的灰度掩模技术  

Gray-scale mask technique used for fabricating microstructure device

作　　者：张新宇[1] 汤庆乐[2] 张智 裴先登[1] 

机构地区：[1]华中大学计算机学院外存储系统国家专业实验室 [2]中国船舶重工集团华中光电技术研究所光电二部,,武汉430074 [3]光电子工程系

出　　处：《微细加工技术》2001年第2期71-75,共5页Microfabrication Technology

基　　金：2000年中国博士后科学基金资助项目;湖北省自然科学基金资助项目! (2 0 0 0JI50 )

摘　　要：讨论了灰度掩模技术在凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形阵列等器件制作方面的应用 ,给出了与几种典型的凸及凹形微透镜、折衍射复合微透镜和微尖形结构对应的灰度掩模板的设计实例及其应用 ,为灰度掩模技术制作微透镜器件及微尖形阵列奠定了基础。The applications of gray-scale mask technique in the fabrication of convex and concave microlens,hybrid refraction diffration microlens and microtip array are discussed. The several design and application examples of gray-scale mask used for fabricating several typical devices, such as convex and concave microlens, hybrid refraction-diffraction microlens and microtipstructure, are given. The research results about gray-scale mask technique can be apply to fabricate microlens device and microtip array practically.

关 键 词：灰度掩模 微透镜阵列 微尖形结构 微器件 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]