保形(Conformal)结构互连电容的BEM模拟  

BEM Simulation for Conformal Dielectric Interconnect Capacitance

作　　者：陆涛涛[1] 喻文健[1] 王泽毅[1] 

机构地区：[1]清华大学计算机科学与技术系,北京100084

出　　处：《计算机辅助设计与图形学学报》2001年第8期684-689,共6页Journal of Computer-Aided Design & Computer Graphics

基　　金：国家自然科学基金 (698760 2 4);美国Synopsys公司资助

摘　　要：介绍了一种基于扫描线的复杂保形介质结构快速生成算法 .该算法应用多边形的扩展运算和集合运算形成保形介质 ,同时处理保形介质中的凹槽 ,并已实现于边界元素法三维互连寄生电容提取软件 B3D中 .数值结果表明 ,该算法可靠 ,并有很高效率 .This paper presents a fast algorithm to form the complex conformal dielectric structures based on scan line algorithm. It uses set operation and stretch of polygon to generate the conformal dielectrics. The algorithm has been integrated in B3D, a BEM software of 3D parasitic interconnect capacitance extraction. The numerical results show that the algorithm is credible and efficient.

关 键 词：边界元素法 保形介质 扫描线 超大规模集成电路 寄生电容 BEM模拟 多层布线 

分 类 号：TN47[电子电信—微电子学与固体电子学]