BaTiO_3薄膜的磁控溅射生长及特性研究  

Sputtering Growth of BaTiO_3 Thin Films and the Films Property Studies

作　　者：吴彩云[1] 季小兵[1] 范叔平[1] 周咏东[1] 褚君浩[2] 王康杰 

机构地区：[1]苏州大学物理系,215006 [2]中国科学院红外物理国家重点实验室,上海200083 [3]苏州新业电子有限公司,215127

出　　处：《固体电子学研究与进展》2001年第3期361-365,共5页Research & Progress of SSE

基　　金：国家高技术航天领域青年基金 (编号 :863 -2 .0 0 .4 );江苏省教委自然科学基金 (编号 :98KJB4 3 0 0 0 1 )资助

摘　　要：用射频磁控溅射方法制备了 Ba Ti O3 (BT)薄膜。用扫描电镜 (SEM)观察了 Ba Ti O3 薄膜表面形貌、截面结构。电子探针分析表明样品具有良好的组份均匀性。BaTiO 3 thin films have been prepared by magnetic RC sputtering deposi tion technique. The SEM images and the spectrums showed that the prepared BaTiO 3 films have good microstructure and even organization. Similar result could be drawn by measuring the films dielectric property.

关 键 词：薄膜 射频磁控溅射 扫描电镜 介电特性 钛酸钡 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TN304.055[理学—物理]