硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法  

A New Method to Pattern Silicon Surface with Chemical Functional Groups

作　　者：吴瑞阁[1] 欧阳贱华[1] 赵新生[1] 黄小华[1] 黄惠忠[1] 吴念祖[1] 

机构地区：[1]分子动态与稳态结构国家重点实验室 北京大学物理化学研究所,北京100871

出　　处：《物理化学学报》2001年第10期931-935,共5页Acta Physico-Chimica Sinica

基　　金：国家重点基础研究发展规划(G1999075305);国家自然科学基金(29953001;29973003)资助项目

摘　　要：为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形，在氢终止硅（ｌｌｌ）表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置，并用ＡＦＭ、ＸＰＳ、接触角测定等验证了这种方法的可行性．Hydrogen-terminated silicon surface was found to react with I-alkenes to produce stable monolayers. To pattern such monolayers and create surfaces with regions of different chemical functionalities, we used the combination of the photolithography and the light induced alkylation. The surfaces had been characterized by XPS, AFM, and contact angel measurement. It is shown that this procedure can be used to prepare micro-patterns of chemical functional groups on silicon substrate.

关 键 词：单层膜 分子构筑 光刻 图形 硅表面 表面成膜反应 氢终止 化学修饰 

分 类 号：O613[理学—无机化学]