吴瑞阁

作品数：1被引量：5H指数：1
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供职机构：北京大学更多>>
发文主题：硅表面光刻单层膜化学修饰化学特性更多>>
发文领域：理学生物学更多>>
发文期刊：《物理化学学报》更多>>
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硅表面上构筑具有化学特性的图形的新方法被引量：5
《物理化学学报》2001年第10期931-935,共5页吴瑞阁 欧阳贱华 赵新生 黄小华 黄惠忠 吴念祖 
国家重点基础研究发展规划(G1999075305);国家自然科学基金(29953001;29973003)资助项目
为了在硅基底上得到不同化学基团修饰的图形，在氢终止硅（ｌｌｌ）表面运用光刻技术和光化学反应结合来控制表面成膜反应的位置，并用ＡＦＭ、ＸＰＳ、接触角测定等验证了这种方法的可行性．
关键词：单层膜 分子构筑 光刻 图形 硅表面 表面成膜反应 氢终止 化学修饰 
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