硅光栅的制作与应用  

Silicon gratings made by microfabrication technology

作　　者：鞠挥[1] 吴一辉[1] 王立鼎[2] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130022 [2]大连理工大学,辽宁大连116000

出　　处：《微纳电子技术》2002年第2期29-33,共5页Micronanoelectronic Technology

基　　金：中科院知识创新工程项目(C01Q04);中科院长春光机所青年创新基金项目(C01Q07)

摘　　要：硅是一种良好的近红外材料。硅光栅的发展迄今已有20多年历史,在制作方法和应用上都有了较大的发展。硅光栅的微加工工艺可以分为体硅工艺和面硅工艺,这些微加工方法在技术上与微电子及微机械工艺可以兼容。本文介绍了硅光栅的制作及其在不同领域的应用。Silicon is an excellent material for near-IR.So far,the history of silicon gratings has more than20years and the development of fabrication methods and applications have been im-proved a lot.Microfabrication process to made silicon gratings can be divided into bulk silicon and surface silicon technology.All these technologies are compatible with the process of microelectricity and micromachine.This review describes the fabrication of silicon gratings and the applications in different fields.

关 键 词：硅 光栅 微加工技术 制作 应用 

分 类 号：O436.1[机械工程—光学工程]