磁控溅射头罩镀膜膜厚分布模拟  

A Method of Preparing Uniformly Thick GexC1-x Film on Domewith Magnetron Sputtering

作　　者：宋建全[1] 刘正堂[1] 于忠奇 耿东生[1] 郑修麟[1] 

机构地区：[1]西北工业大学材料科学与工程系,陕西西安710072

出　　处：《西北工业大学学报》2002年第1期141-144,共4页Journal of Northwestern Polytechnical University

基　　金：国防"九五"预研(J12.2.8)资助;陕西省自然科学基金(99C29)资助

摘　　要：尽管有很多模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积曲面如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本文根据磁控溅射球冠形基片上膜厚分布规律出发，分析了几个可能实现头罩均匀镀膜的模型，并对不同的模型进行了计算机模拟，找出了实现头罩均匀镀膜的最佳方式，并得到了实验验证。Abstract: In order to be effective, the GexC1-x film on dome used in aerospace vehicle should be uniformly thick. We propose to achieve the objective of uniformity in thickness through computer simulation experiments. In section l,we discuss in much detail several possible simulation models and in subsection 1. 2 we discuss the best model to be selected. Fig. 7 and Table 1 give simulation results that show preliminarily that the best method we select is effective.

关 键 词：磁控溅射 头罩 分布均匀性 模拟 分布规律 薄膜厚度 红外制导导弹 

分 类 号：V421[航空宇航科学与技术—飞行器设计] TJ760.3[兵器科学与技术—武器系统与运用工程]