宋建全

作品数：11被引量：31H指数：4
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供职机构：西北工业大学材料学院材料学系更多>>
发文主题：XCX磁控溅射膜系设计薄膜厚度更多>>
发文领域：理学电子电信自动化与计算机技术一般工业技术更多>>
发文期刊：《红外与毫米波学报》《激光与红外》《红外技术》《材料导报》更多>>
所获基金：中国航空科学基金陕西省自然科学基金更多>>
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磁控溅射头罩镀膜膜厚分布模拟
《西北工业大学学报》2002年第1期141-144,共4页宋建全 刘正堂 于忠奇 耿东生 郑修麟 
国防"九五"预研(J12.2.8)资助;陕西省自然科学基金(99C29)资助
尽管有很多模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积曲面如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本文根据磁控溅射球冠形基片上膜厚分布规律出发，分析了几个可能实现头罩均匀镀膜的模型，并对不同的模型进行了计算机模拟...
关键词：磁控溅射 头罩 分布均匀性 模拟 分布规律 薄膜厚度 红外制导导弹 
GaP薄膜的制备与性能研究
《材料工程》2001年第10期27-30,共4页宋建全 刘正堂 郭大刚 耿东生 郑修麟 
航空基础科学基金 ( 98G5 310 4)资助
利用磁控溅射法成功地制备出 Ga P薄膜 ,并对 Ga P薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能进行了研究。结果表明 ,沉积薄膜中 Ga与 P的原子比接近 1∶ 1,形成了 Ga P化合物 ,呈非晶态结构。设计并制备出 Ga P/ DL C复合膜系 ,结果表...
关键词：GaP薄膜 射频磁控溅射 增透保护膜系 制备 磷化镓薄膜 性能 硫化锌基片 
长波红外增透保护薄膜的进展被引量：6
《材料导报》2001年第12期35-37,共3页宋建全 刘正堂 耿东生 郑修麟 
航空基础科学基金资助项目(98G53104)
镀膜是保证红外窗口和头罩使用性能的关键技术。重点结合作者近几年的研究,介绍了类金刚石(DLC)、碳化锗(Ge_xC_(1-x))、磷化物(BP、GaP)、金刚石(Diamond)等几种薄膜材料及其膜系的光学性能。
关键词：红外增透保护薄膜 膜系 金刚石薄膜 碳化锗薄膜 磷化物薄膜 类金刚石薄膜 光学性能 
ZnS头罩增透保护膜系制备被引量：5
《红外与毫米波学报》2001年第3期203-206,共4页宋建全 刘正堂 于忠奇 耿东生 郑修麟 
国防"九五"预研基金 (编号 J12 .2 .8)资助项目;陕西省自然科学基金 (编号 99C2 9)资助项目&&
利用计算机对不同运动轨迹下 Zn S头罩外表面膜厚分布进行了模拟 ,优化出头罩的最佳运动轨迹 ,在该轨轨迹下采用射频磁控反应溅射 (RRFS)法进行头罩镀膜 ,能够得到满足使用要求的薄膜厚度均匀性 .实验结果表明 ,头罩外表面薄膜厚度不均...
关键词：头罩 射频磁控溅射 厚度均匀性 红外光学性能 模拟 增透保护膜系 硫化锌 薄膜 
平面磁控溅射薄膜厚度分布模拟被引量：6
《机械科学与技术》2001年第6期884-885,共2页宋建全 刘正堂 于忠奇 耿东生 郑修麟 
国防"九五"预研 ( J12 .2 .8)资助项目;陕西省自然科学基金 ( 99C2 9)
磁控溅射法是制备薄膜的一种重要方法 ,薄膜厚度分布是影响薄膜性能的一个重要因素。本文根据平面磁控溅射的实际 ,提出了一个较为全面的磁控溅射薄膜厚度分布模型 ,该模型综合考虑靶面溅射电流分布、溅射产额与入射角之间的关系、靶面...
关键词：磁控溅射 膜厚分布 计算机模拟 薄膜 
Ge_xC_(1-x)非均匀增透保护膜系的设计和制备被引量：1
《激光与红外》2001年第4期253-255,共3页宋建全 刘正堂 耿东生 郑修麟 
"九五"预研(J12.2.8)资助项目;陕西省自然科学基金 ( 99C2 9)资助项目
用射频磁控反应溅射法 (RS)制备出 Gex C1-x薄膜 ,其折射率可以在 1 .7～ 4.0之间变化。设计出单层 Gex C1-x非均匀增透保护膜和含有 Gex C1-x非均匀膜的多层增透保护膜系 ,并在 Zn S基片上制备出 Gex C1-x单层非均匀增透保护膜。设计...
关键词：碳化锗薄膜 非无效膜 增透保护膜系 膜系设计 膜系制备 
红外增透保护膜系软件设计及应用被引量：4
《红外技术》2001年第2期1-3,7,共4页宋建全 刘正堂 耿东生 郑修麟 
航空基础科学基金 !(编号 98G531 0 4 );陕西省自然科学基金! (编号 99C2 9)
根据制备红外增透保护膜系需要 ,编制了一个红外增透保护膜系软件。该软件可以设计、计算多层红外均匀增透保护膜系和非均匀增透保护膜系 ,更有强大多层膜系结构分析功能 ,不仅可以对设计的膜系进行综合评价 ,而且能对制备的膜系结构进...
关键词：红外 增透保护膜系 膜系设计 膜系结构 软件 程序设计 DELPHI 
磁控反应溅射制备Ge_xC_(1-x)薄膜的特殊性分析
《材料工程》2000年第10期15-17,21,共4页宋建全 刘正堂 于忠奇 耿东生 郑修麟 
航空科学基金!资助项目 ( 93G531 2 0 );陕西省自然科学基金!资助项目 ( 99C2 9)
利用射频磁控反应溅射法 ,以 Ar,CH4 为原料气体 ,在较宽的工艺参数范围内制备出了 Gex C1- x薄膜 ,用干涉法测量了薄膜的厚度 ,对 Gex C1- x薄膜的沉积速率和 Ge原子百分比进行了研究。结果表明 ,Gex C1- x薄膜的沉积速率并没有随着靶...
关键词：磁控反应溅射 红外镀膜材料 GEXC1-X薄膜 制备 
Ge_xC_(1-x)薄膜在红外增透保护膜系设计和制备中的应用被引量：10
《红外与毫米波学报》2000年第4期266-268,共3页宋建全 刘正堂 于忠奇 耿东生 郑修麟 
航空科学基金! (编号 93G5312 0 )资助项目
用磁控反应溅射 (RS)法制备出 Gex C1 - x薄膜 ,它的折射率可在 1 .6～ 4.0之间变化 .设计出不同厚度的 Gex C1 - x均匀增透膜系和非均匀增透膜系 ,并在 Zn S基片上制备出 Gex C1 - x均匀增透膜系 .设计结果表明 ,均匀膜系能实现某一波...
关键词：薄膜 射频磁控反溅射 红外增透保护膜系 
磁控反应溅射制备Ge_xC_(1-x)薄膜的结构
《金属热处理学报》2000年第2期95-99,共5页刘正堂 耿东生 宋建全 朱景芝 郑修麟 
航空科学基金!资助 (93G5 312 0 )
利用射频磁控反应溅射以Ar、CH4 为原料气体 ,在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1-x薄膜。利用X射线衍射 (XRD)、X射线光电子谱 (XPS)对制备的薄膜进行了分析。结果表明 ,GexC1-x薄膜的结构强烈依赖于制备的工艺参数。当沉积温度较低...
关键词：GexC1-x薄膜 磁控反应溅射 薄膜结构 
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